| 초록 |
본 발명은 생화학 분석칩 내부의 나노 미세전극 가공방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는 모재 내부에 금속패턴을 형성하고 팸토초 레이저를 이용하여 모재와 금속패턴을 동시에 가공함으로써, 미세전극이 미세채널에 정확하고 정교하게 형성될 수 있도록 하며, 금속패턴만을 펨토초 레이저 나노표면 가공법으로 추가 가공함으로써 더욱 정교한 나노 스케일 수준의 금속패턴을 얻을 수 있고 이를 통해 100 나노미터 이하의 나노 스케일 미세전극을 얻을 수 있으며 미세전극과 미체채널 간 나노미터 수준의 정확도를 확보할 수 있을 뿐만 아니라 가공 프로세스를 간결화할 수 있는 생화학 분석칩 내부의 나노 미세전극 가공방법에 관한 것이다. 이를 위해 본 발명은 (a) 제1 모재의 표면에 금속패턴을 형성하는 단계; (b) 상기 금속패턴이 형성된 상기 제1 모재의 상부에 제2 모재를 결합하는 단계; 및 (c) 상기 금속패턴과 상기 모재를 펨토초 레이저로 동시에 가공함으로써 미세채널과 미세전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 생화학 분석칩 내부의 나노 미세전극 가공방법을 제공한다. |
