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특허/실용신안

X선 촬영법에 의한 X선 촬상을 위한 광학 위치 맞춤 시스템 및 위치 맞춤 방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 리플렉티브 엑스-레이 옵틱스 엘엘씨
출원번호 10-2010-7019018
출원일자 2010-08-26
공개번호 20101011
공개일자 2012-05-02
등록번호 10-1140199-0000
등록일자 2012-04-19
권리구분 KPTN
초록 X선 촬상(撮像) 장치를 위한 광학 위치 맞춤 시스템은, 가시광 점원(點源)과, 그것을 위한 다축 포지셔너(positioner)이고, X선 초점 스폿(spot)에 대하여 고정하여 장착되는 것을 포함한다. 미러 또는 빔 스플리터(beamsplitter)가 X선 초점 스폿에 대하여 고정하여 장착되고, X선원의 빔 통로에 배치된다. 빔 스플리터는 광원으로부터 방출되는 빛을 반사하여, X선원(線源)으로부터 방출되는 X선을 전달한다. 제1 X선 감쇠 그리드(grid)는, X선원에 대하여 고정하고, 또한 떼어냄 가능하게 장착 가능하고, 제1 X선 감쇠 패턴을 가진다. 제2 X선 감쇠 그리드는, 제1 그리드에 대하여 조정 가능하고 또한 장착 가능하고, 제1 X선 감쇠 패턴에 대응하는 제2 X선 감쇠 패턴을 가진다. 그리드가 위치 맞춤될 때에, 감쇠 패턴도 또한 위치 맞춤되고, X선원으로부터의 X선과 빔 스플리터로부터 반사되는 빛이 그들을 통과하는 것을 가능하게 한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020107019018
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE A61B-006/00,A61B-006/08
주제어 (키워드)