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논문 기본정보

원자층 증착장치에 의한 TiO2 박막 코팅된 폴리머 절연체의 표면 및 전기적 특성의 향상

논문 개요

기관명, 저널명, ISSN, ISBN 으로 구성된 논문 개요 표입니다.
기관명 NDSL
저널명 전기전자재료학회논문지 = Journal of the Korean institute of electronic material engineers
ISSN 1226-7945,
ISBN

논문저자 및 소속기관 정보

저자, 소속기관, 출판인, 간행물 번호, 발행연도, 초록, 원문UR, 첨부파일 순으로 구성된 논문저자 및 소속기관 정보표입니다
저자(한글) 김남훈,박용섭
저자(영문)
소속기관
소속기관(영문)
출판인
간행물 번호
발행연도 2016-01-01
초록 Titanium oxide ( $TiO_2$ ) thin films were synthesized on polymer insulator and Si substrates by atomic layer deposition (ALD) method. The surface and electrical properties of $TiO_2$ films synthesized at various ALD cycle numbers were investigated. The synthesized $TiO_2$ films exhibited higher contact angle and smooth surface. The contact angle of $TiO_2$ films was increased with the increase of ALD-cycle number. Also, the rms surface roughness of films was slightly rough with the increase of ALD-cycle number. The leakage current on $TiO_2$ film surface synthesized at various conditions were uniformed, and the values were decreased with the increase of ALD-cycle number. In the results, the performance of $TiO_2$ films for self-cleaning critically depended on a number of ALD-cycle.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=NART&cn=JAKO201622341962175
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류,DDC 분류,주제어 (키워드) 순으로 구성된 추가정보표입니다
과학기술표준분류
ICT 기술분류
DDC 분류
주제어 (키워드) lt,TEX gt,$TiO_2$ lt,/TEX gt,. Atomic layer deposition (ALD),Contact angle,Leakage current,Rms surface roughness