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논문 기본정보
플라즈마 식각 공정에서 의사결정 알고리즘을 이용한 실시간 식각 종료점 검출
논문 개요
| 기관명 | NDSL |
|---|---|
| 저널명 | 전기전자학회논문지 = Journal of IKEEE |
| ISSN | 1226-7244, |
| ISBN |
논문저자 및 소속기관 정보
| 저자(한글) | 노호택,박영국,한승수 |
|---|---|
| 저자(영문) | |
| 소속기관 | |
| 소속기관(영문) | |
| 출판인 | |
| 간행물 번호 | |
| 발행연도 | 2016-01-01 |
| 초록 | 플라즈마 식각 공정에서 식각 종료점 검출은 중요한 요소이다. Optical Emission Spectroscopy (OES) 는 플라즈마 반응을 분석하는데 사용한다. 그리고 Plasma Impedance Monitoring (PIM) 은 플라즈마 공정 중에 RF power에 의한 voltage, current, power, impedance를 분석하는데 사용한다. 본 논문에서는 새로 제안하는 의사결정 알고리즘을 이용하여 single layer 산화막 플라즈마 식각에서 식각 종료점 검출의 성능을 향상시키는 것을 제안한다. 식각 종료점 검출의 정확도를 높이기 위해 OES 데이터와 PIM 데이터들을 의사결정 알고리즘에 모두 적용하여 사용한다. 제안된 방법은 SiOx 플라즈마 식각에서 식각 종료점을 정확하게 검출한다. |
| 원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=NART&cn=JAKO201611962056944 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| DDC 분류 | |
| 주제어 (키워드) | Endpoint Detection (EPD),Decision Making Algorithm,Optical Emission Spectroscopy (OES),Plasma Impedance Monitoring (PIM),Hidden Markov Model (HMM) |