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논문 기본정보

증착율 변화에 따른 TIO 박막의 전기적, 광학적 특성 변화

논문 개요

기관명, 저널명, ISSN, ISBN 으로 구성된 논문 개요 표입니다.
기관명 NDSL
저널명 열처리공학회지 = Journal of the Korean society for heat treatment
ISSN 1225-1070,
ISBN

논문저자 및 소속기관 정보

저자, 소속기관, 출판인, 간행물 번호, 발행연도, 초록, 원문UR, 첨부파일 순으로 구성된 논문저자 및 소속기관 정보표입니다
저자(한글) 문현주,김대일
저자(영문)
소속기관
소속기관(영문)
출판인
간행물 번호
발행연도 2016-01-01
초록 TIO thin films were deposited on the poly-carbonate substrates with RF magnetron sputtering under different sputtering power condition to investigate the influence of deposition rate on the electrical and optical properties of the films. Although, all films have the similar carrier concentration, the films prepared at a lower deposition rate of 4 nm/min show a higher mobility of $5.96cm^2 ;V^{-1}S^{-1}$ due to the low surface roughness. In addition, optical transmittance is also influenced by a deposition rate. Based on the figure of merit, it can be concluded that the lower deposition rate effectively enhances the opto-electrical performance of IGZO films for use as transparent conducting oxides in flexible display applications.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=NART&cn=JAKO201614137725891
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류,DDC 분류,주제어 (키워드) 순으로 구성된 추가정보표입니다
과학기술표준분류
ICT 기술분류
DDC 분류
주제어 (키워드) IGZO,magnetron sputtering,deposition rate,figure of merit