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논문 기본정보

화학적 기계적 연마 공정으로 제조한 PZT 캐패시터의 전기적 특성

논문 개요

기관명, 저널명, ISSN, ISBN 으로 구성된 논문 개요 표입니다.
기관명 NDSL
저널명 한국전기전자재료학회 2006년도 추계학술대회 논문집 Vol.19
ISSN ,
ISBN

논문저자 및 소속기관 정보

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저자(한글) 고필주,김남훈,이우선
저자(영문)
소속기관
소속기관(영문)
출판인
간행물 번호
발행연도 2006-01-01
초록 본 연구에서는 PZT박막의 강 유전 캐패시터 제작을 위한 연구로, 4-inch크기의 $SiO_2$ /Pt/Ti/Si가 증착된 웨이퍼를 습식 식각하여 $SiO_2$ 패턴(0.8um)을 형성하였고, PZT박막의 캐패시터 제작을 위해 패턴 웨이퍼에 $Pb_{1.1}$ ( $Zr_{0.52}Ti_{0.48}$ ) $O_3$ 조성을 갖는 PZT를 증착하였다. $600^{ circ}C$ 에서 열처리 후 페로브스카이트 구조를 가지는 PZT 박막의 CMP(chemical mechanical polishing) 공정에 따른 전기적 특성을 연구하였다. 강유전체 소자 적용을 위한 CMP 공정으로 제조된 PZT 박막 캐패시터의 P-E특성, I-V특성, 피로특성 등의 전기적 특성을 측정하였다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=NPAP&cn=NPAP08613723
첨부파일

추가정보

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과학기술표준분류
ICT 기술분류
DDC 분류
주제어 (키워드) CMP,PZT,Electrical Properties