| 저자(한글) |
YU, Qiang,CHEN, Zhen,FAN, Ying-ying,WEI, Chang,LIANG, Mei-yan,WEN, Da-kai# |
| 초록 |
복합 전착(composite electrodeposition) 방법으로 새로운 3가크롬 도금용(trivalent chromium plating)에 이용되는 PbO 2 -CeO 2 -ZrO 2 불활성(inertness) 양극 재료를 제조하였으며, 전기화학 방법을 이용하여 전극 재료의 침전 메커니즘, 내식성과 촉매 활성을 분석하였다. 주사전자현미경과 에너지 분광 분석법으로 전극 재료의 미세 형태와 원소 함량을 관찰하였다. 관찰 결과, 도금층의 침적은 Johnson 메커니즘에 부합되었고, PbO 2 의 침적 과정은 매우 안정적이었다. 20g/L의 ZrO 2 농도로 제조한 복합 불활성 양극 재료의 내식성은 양호하였으며 촉매 활성은 높았다. ZrO 2 의 첨가가 도금층의 미세 형태에 미치는 영향은 뚜렷하지 않았으며, 도금액 중 ZrO 2 농도가 증가함에 따라 도금층 중 CeO 2 의 함량은 전반적으로 안정적이었고, ZrO 2 의 함량은 먼저 증가하고 후에 감소하는 추세를 보였다. |
