- HOME
- 홈페이지 이용안내
논문 기본정보
Preparation of Cubic Boron Nitride Coating on WC-Co Substrate by Micro/Nanocrystalline Diamond Film Interlayer
논문 개요
| 기관명 | NDSL |
|---|---|
| 저널명 | 南京航空航天大學學報 = Journal of Nanjing University of Aeronautics Astronautics |
| ISSN | 1005-2615, |
| ISBN |
논문저자 및 소속기관 정보
| 저자(한글) | Xu, Feng,Zuo, Dunwen,Zhang, Xuhui,Hu, Haifeng,Zhang, Cheng,Wang, Min |
|---|---|
| 저자(영문) | |
| 소속기관 | |
| 소속기관(영문) | |
| 출판인 | |
| 간행물 번호 | |
| 발행연도 | 2013-01-01 |
| 초록 | 입방정계형 질화붕소(Cubic Boron Nitride, cBN)는 다이아몬드에 버금가는 초경화성 재료인데 다이아몬드 보다 더욱 높은 화학적인 안정성을 가지고 있어 철 계열의 금속 가공을 행할 수 있다. 본 논문에서는 마이크로 다이아몬드 간층(interlayer)에 기반한 YG6 초경합금의 cBN 코팅 제조를 연구하였다. 우선 열 필라멘드 화학기상증착시스템(hot filament chemical vapor deposition system)에 마이크로 나노 다이아몬드 간층(Micro/nanocrystalline diamond interlayer, M/NCD interlayer)을 제조하여 무선 주파수(radio frequency)마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering) 시스템에 cBN코팅을 하여 M/NCD과 cBN코팅에 대하여 성분과 미세 구조와 결합 성능에 대한 분석을 진행하였다. 연구 결과, 초경합금 매트릭스(matrix)에서 M/NCD 간층의 결합 성능은 NCD 간층보다 현저하게 탁월하였다. 마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering)으로 cBN코팅을 제조하는 과정에서 cBN 침적에 적합한 바이어스 전압(bias voltage)이 존재하며 너무 높거나 너무 낮은 바이어스 전압(bias voltage)은 cBN 함량을 높히는데 불리하였다. |
| 원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=NART&cn=NART66521023 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| DDC 분류 | |
| 주제어 (키워드) | cubic Boron Nitride,tool coating,interlayer magnetron sputtering,micro/nano crystalline diamond,interlayer,입방정계 질화붕소,툴 코팅,마그네트론 스퍼터링,마이트로 나노 결정체 다이아몬드,간층 |