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논문 기본정보
산소플라즈마 에칭공정을 응용한 탄소나노튜브 Array 길이 제어 연구
논문 개요
| 기관명 | NDSL |
|---|---|
| 저널명 | 韓國眞空學會誌 = Journal of the Korean Vacuum Society |
| ISSN | 1225-8822, |
| ISBN |
논문저자 및 소속기관 정보
| 저자(한글) | 송유진,강성준 |
|---|---|
| 저자(영문) | |
| 소속기관 | |
| 소속기관(영문) | |
| 출판인 | |
| 간행물 번호 | |
| 발행연도 | 2009-01-01 |
| 초록 | 탄소나노튜브 Array를 고성능의 전자소자로 응용하고자 함에 있어, 탄소나노튜브의 전기적 특성을 결정짓는 길이와 직경을 제어하는 일은 매우 중요하다. 본 연구에서는 비교적 간단한 공정을 통하여 탄소나노튜브의 길이를 제어하는 기술을 개발 하였다. 기판에 평행하게 정렬된 탄소나노튜브 Array 박막을 열화학기상증착법을 이용하여 성장 시킨 후, 간단한 포토 리소그래피 공정과 산소 플라즈마 에칭 공정을 통하여 균일한 길이의 탄소나노튜브 Array를 기판위에 형성하였다. 본 연구를 통하여 개발된 균일한 길이의 고밀도 탄소나노튜브 Array는 대면적의 나노전자 소자뿐만 아니라, 태양전지, 바이오센서 등에 적용할 수 있다. |
| 원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=NART&cn=JAKO200908939909661 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| DDC 분류 | |
| 주제어 (키워드) | 탄소나노튜브 Array,길이 제어,산소 플라즈마 에칭,Carbon nanotube,Uniform length,Oxygen plasma etching |