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논문 기본정보

Effects of forest gap size on growth and photosynthetic characteristics of Toona sinensis

논문 개요

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기관명 NDSL
저널명 廣西植物 = Guihaia
ISSN 1000-3142,
ISBN

논문저자 및 소속기관 정보

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저자(한글) ZHANG, Jun,LI, Xian-wei,FAN, Chuan,FENG, Mao-song,ZHAO, Min,LONG, Ling,WANG, Jia-mei
저자(영문)
소속기관
소속기관(영문)
출판인
간행물 번호
발행연도 2014-01-01
초록 쓰촨성(Sichuan province) 중부 구릉지대의 사이프러스(cypress) 인공림의 숲 틈 면적[50m 2 (Ⅰ), 100m 2 (Ⅱ) 및 200m 2 (Ⅲ), 노지(opening field, CK)]이 참죽나무(Toona sinensis)의 성장, 광합성 특성 및 관련 생리적 특징에 미치는 영향을 연구하였다. 그 결과, 숲 틈 면적은 참죽나무의 식물체 높이, 줄기 직경 및 수관 면적에 뚜렷한 영향을 미치는데, 숲 틈 Ⅱ가 미치는 영향이 가장 크고, CK가 미치는 영향이 가장 작았다. 숲 틈 면적의 증가에 따라, 참죽나무의 일간 평균 순광합성 속도는 증가하였지만, 정오의 순광합성 속도, 초기 양자효율, 광포화점, 최대 순광합성 속도, 광합성 질소 이용 효율, 광에너지 이용 효율은 현저히 낮아졌고, 광합성 능력도 낮아졌다. 참죽나무의 엽록소a/b, 잎 두께, 비엽 생중량, 비엽 건중량, 단위 면적 잎의 질소 함량, 말론디알데히드(malondialdehyde), 과산화물제거효소 및 가용성 담백질 함량은 숲 틈 면적의 증가에 따라 증가하였고, 엽록소a, 엽록소b 및 카르티노이드(carotenoids) 함량은 숲 틈 면적의 증가에 따라 감소하였다. 즉, 참죽나무는 숲 틈 면적의 변화로 인한 빛의 세기 변화에 대한 비교적 강한 적응성을 가진다. 이는 참죽나무의 성장과 광합성 능력의 차이를 어느 정도 촉진하였다. 비기공 제한(non-stomatal limitation)은 노지 참죽나무의 '광합성 낮잠(photosynthetic siesta)' 및 숲 틈 내의 일간 Pn 감소의 주요 요인일 가능성이 있다고 추정한다. 따라서, 참죽나무는 서식지 변화에 대한 적응성이 비교적 강하고, 100m 2 의 숲 틈은 형성 초기에 참죽나무가 비교적 높은 생산력과 광합성 능력을 유지하도록 촉진할 수 있다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=NART&cn=NART71050082
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류,DDC 분류,주제어 (키워드) 순으로 구성된 추가정보표입니다
과학기술표준분류
ICT 기술분류
DDC 분류
주제어 (키워드) Toona sinensis,forest gap,light intensity,growth,photosynthetic characteristics,참죽나무,숲 틈,광 세기,성장,광합성 특성