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장비
장비 및 시설 기본정보
리소그래피 시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Raith |
| 모델명 | Lithography System |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2006-12-01 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 광주과학기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C501 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 특징 * 전자빔 컨트롤 * nano size pattern 홀로그래픽 리소그래피(Holographic Lithography)는 레이져 광원의 간섭효과를 이용하여 기존의 광학리소그래피에서 필요로 하는 마스크와 광학 시스템을 필요로 하지 않으며 넓은 영역에 레이져 파장의 λ/4 또는 그 이상의 크기를 가지는 패턴을 주기적으로 빠르고 쉽게 패터닝 할 수 있는 시스템. He-Cd Laser System(λ=325nm Power=50mW)을 이용함으로써 최대 80 nm의 형상과 주기 160 nm를 가지는 형상을 가지는 패턴을 복잡한 광학리소그래피 과정을 거치지 않고 빠른 시간에 빔 사이즈를 조절하여 원하는 사이즈의 영역에 형성 시킬 수 있음. 레이져 빔의 위상차를 조절하여 각기 원하는 패턴의 크기와 주기를 조절할 수 있어 대면적에서의 주기적인 나노 사이즈 패턴을 쉽고 빠르게 조절하여 형성시킬 수 있을 뿐만 아니라 일반적인 광학리소그래피에 의해 얻기 힘든 나노 사이즈의 나노막대 나노 기둥 나노 점 등의 다양한 형태의 1D2D 또는 3D 패턴을 형성시킬 수 있는 장점을 가지고 있음.구성및성능 Raith lithography system활용분야 nano size electrode design |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201110/.thumb/20111025105922.jpg |
| 장비위치주소 | 광주 북구 오룡동 광주과학기술원 1 광주과학기술원 신소재공학동 5층 506 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2007-11-048134 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0007530 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |