시료 PATTERMING SYSTEM
기관명 | ZEUS |
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장비번호 | |
제작사 | KYOWA RIKEN |
모델명 | K-309PW5 |
장비사양 | |
취득일자 | 1997-02-19 |
취득금액 |
보유기관명 | 홍익대학교 산학협력단 |
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보유기관코드 | |
활용범위 | |
활용상태 | |
표준코드 | |
표준분류명 | |
시설장비 설명 | 특징 UV 조사에 의해 감광성 소재를 경화시켜 형상화 공정을 수행하는 장비구성및성능 UV 노광기 스핀코터 오븐마스크얼라이너 Mask Aligning & Exposure 장치 1.Light Source : High pressure mercury lamp 2.주파장:365nm 3.Uniformity:5%이내 4.현미경/Lamp House : 동축회전이동식 5.Exposure Area : Diameter 75mm이상 6.Mask(Holder)Size : 4inch square 7.Resolution : 5um 8.Alignment Manipulator 9.Negative Mask and Sample Simultaneous Displacement 10.Lamp Shutter Oening/Closing time:0.1 to 999.9sec 11.On-Off Delay Timer for Lamp Cooling Pan 12.Microscopes 13.Dry Pump 14.10 spare Lamps 15.Installation & startup free of charge at customer sites Photoresist Spin Coater활용분야 형상화 공정 |
장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/200712/.thumb/20071220134509.jpg |
장비위치주소 | 서울 마포구 상수동 홍익대학교 72-1번지 홍익대학교 제1공학관 지하1층 K013-1호 |
NFEC 등록번호 | NFEC-2007-12-051227 |
예약방법 | |
카타로그 URL | |
메뉴얼 URL | |
원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0007936 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
주제어 (키워드) |