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장비
장비 및 시설 기본정보
엠에이6
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | SUSS MicroTec Lithography GmbH |
| 모델명 | MA6 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2005-11-17 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국과학기술연구원 마이크로나노팹센터 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C501 |
| 표준분류명 | 시험·검사장비 |
| 시설장비 설명 | MAST Aligner는 Clean Room에서 사용하는 MEMS Nano소자연구용 Lithography 장비임. 광학을 이용한 노광 장치로 마이크로 패터닝을 형성함. 소자를 제작하는데 필수적으로 사진식각 작업이 이루 어지며, 그 핵심적인 장비가 Mask Aligner임. 매 공 정들이 완성될 Device중 하나의 구성요소가 되기에 각 공정에서 사용되는 여러 Mask는 각각의 기준점에서 정 확히 일치하여야 하며 이것을 가능하게 해주는 장비임. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images/equip/photo/.thumb/nmHzBKNdSVJvDQ2Wataa_w600.jpg |
| 장비위치주소 | 한국과학기술연구원 청정연구동1층 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2006-01-043553 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-KIST_Fab-00006 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |