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장비
장비 및 시설 기본정보
플라즈마 에처
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Spi Supplies |
| 모델명 | SPI Plasma prepTMⅢ |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2012-12-11 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 전남테크노파크 전남과학기술진흥센터 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C510 |
| 표준분류명 | 시험·검사장비 |
| 시설장비 설명 | 습식에서 에칭이 곤란한 질화규소(Si3N4) 등을 불화규소(SiF4)가스 등의 플라즈마를 사용하여 에칭하기 위한 장비임. 플라즈마 에처 내부에 RF 발생기가 장착되어야 하며, RF 튜브는 1에서 100W 이상까지 쉽게 가변 가능하여 작업요구에 맞게 조절함. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images/equip/photo/.thumb/cCzquTjwIrtR3cEBG9WA_w600.jpg |
| 장비위치주소 | 전남과학기술진흥센터 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2013-03-176520 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-JNSP-00011 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |