| 시설장비 설명 |
미세한 탐침을 시료표면 가까이 가져갔을 때 생기는 원자간의 상호 작용력을 이용하여 표면의 topography와 morphology를 측정하고, 3차원적 이미지를 제공하는 장치이며 원자 지름의 수 십분의 일(0.01nm)까지 측정해 낼수 있고 일반 대기 중에서서 시료표면의 전처리 과정없이, 즉 도체, 반도체, 및 부도체에 상관없이 3차원 형상을 측정함로써 폭, 높이, 각도, 거칠기 등 3차원적 정보를 얻을 수 있다.● Microscope Stage, Head and Scanner - 최대 시료 크기 및 두께 : 100mm x 100mm, 20mm 두께 - 최대 시료 무게 : 500 g - 시료 이송 거리 : 수동 Micrometer를 이용한 최대 25mm x 25mm - X, Y : Up to 50 um - Resolution : < 0.15 nm ● Z Scan range : - Up to 12 um - Resolution : < 0.05 nm - Z stage : 이송거리 30 mm, 0.08 um 해상도 및 30,000 step/sec ● SPM Head 능력 - 접촉식, 준 접촉식 및 비 접촉식 AFM, LFM, MFM, FMM, Phase image, EFM, DC-EFM, I/V Spectroscopy,Liquid operation, Nanolithography, Force vs. Distance curve시료의 형상을 수평·수직 방향 모두 정확하게 측정할 수 있고, 시료의 물리적 성질과 전기적 성질까지도 알아낼 수 있다. 배율은 광학현미경이 최고 수천 배, 전자현미경이 최고 수십만 배인 데 비해 최고 수천만 배까지 가능해 하나하나의 원자까지 상세하게 관찰할 수 있다. |
