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장비
장비 및 시설 기본정보
클러스터 건식 식각기
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 세미테크 |
| 모델명 | P-5000 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2014-01-26 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 대구경북과학기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C514 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | - 3개의 process chamber로 이루어진 클러스터 타입의 건식식각기임. - 진공 chamber 내에 반응성 가스를 주입하여 RF power를 인가 플라즈마를 형성하여 화학적/물리적 반응을 이용하여 박막을 건식으로 식각함.- Process sample : 6“ wafer - Process Module : Chamber A : Poly-Si etching Chamber B : Metal etching Chamber C : PR strip - Cooling system : Chamber AB : He cooling (Independent Type He Cooling) - Chuck type : Chamber AB : Clamp type chuck Chamber C : Basket type - EPD(Ch-AB) : Monochrometer Type EPD - Bias power generator : Chamber AB : 1250W @13.56MHz Chamber C : 1500W @13.56MHz - Process gas : Chamber A(Poly-Si) : Cl2 HBr SF6 CF4 HeO2 Chamber B(Metal) : BCl3 Cl2 N2 SF6 CF4 Chamber C(PR strip) : N2 O2 CF4 H2OA chamber : 반도체 제조 공정중 Poly-Si a-Si 박막을 건식식각 하는용도로 사용 B chamber : 반도체 공정중 배선용 metal 박막을 건식식각 하는용도로 사용 C chamber : 건식으로 PR strip을 필요로 하는 공정에 사용 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201402/.thumb/2014022091950560.jpg |
| 장비위치주소 | 대구 달성군 현풍면 상리 50-1 대구경북과학기술원 중앙기기센터 2층 205 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2014-02-185973 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0042764 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |