- HOME
- 기술정보
- 장비
장비
장비 및 시설 기본정보
스퍼터링 시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 코리아바큠테크(Korea Va |
| 모델명 | KVS-2006L |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2014-06-02 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 오송첨단의료산업진흥재단 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C506 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 이식형 전극 등의 표면에 마이크로 구조물이나 전도성 라인 패터닝을 위해 금 알루미늄 티타늄등의 금속을 박막 증착하는데 사용하는 장비입니다. 또한 시료 표면에 실리콘 융합 산화물 등의 박막 증착에도 사용합니다. 가속된 원자 입자를 증착하고자 하는 재료에 강하게 충돌시켜 튀어나온 원자들이 균일하게 시료 표면에 부착됩니다.1. 주요성능 A. 증착 시편 크기 : 조각시편 ~ 6인치 B. 시편가열온도 및 균일도 : ± 3 ℃ 이내(1000℃에서) C. 시편증착균일도 : ± 3 % 이내 D. 진공도달성능 : 1시간 이내 2 X 10-7 Torr까지 도달 가능 E. 장비제어 방식 : PLC 터치패널 2. Process Chamber A. 재질 : 부식방지를 위한 스테인레스 스틸 B. 구조 : 몸체(원통형) 상부 덮게(평판형) 시창과 셔터로 구성 C. 개폐방식 : 공압식 D. 표면처리 : 전해연마처리 필요 E. 외벽 진공 기밀부 냉각라인 용접 F. 내벽 증착방지용 쉴드 커버 포함 G. 대기압센서 장착 3. Loadlock Chamber A. 재질 : 스테인레스 스틸 또는 동등성능 이상 B. 구조 : 몸체 및 상부 덮게 시창 도어 안전센서 부착 C. 표면처리 : 전해연마 또는 동등성능 이상 D. 개폐방식 : 반자동 또는 동등성능 이상 E. 시편이송장치 : 자동이송장치 이송하중 : 1KG / 진공 싱글형 / RT 모션동작 / 기판위치감지 센서 4. Vacuum Pumping unit A. 고진공 터보펌프 : 배기용량 : 1000 리터/초 (N2) RPM 제어 가능 B. 저진공 드라이펌프(Process chamber 용) : 배기용량 : 1000 리터/분 C. 저진공 드라이펌프(Loadlock chamber 용) : 배기용량 : 600 리터/분 D. 고진공터보펌브 차단밸브 (공압) E. 주배기 및 후단부 진공밸브 (공압) F. 진공배관라인 G. 시편이송용 격리밸브 5. Substrate Unit A. 가열 장치와 온도제어계 (PID PROGRAMMABLE) B. 가열원 : PBN Heater arc Free 제어 가능 C. 시편홀더 (6인치) 기판회전장치와 모타콘트롤러 분당회전수 제어범위 : 1 ~ 50 D. 증착거리조절장치 거리조절길이 : 70mm VACUUM SEALING : WELDED BELLOWS E. 구동 : 서보모터와 콘트롤러 기판 안착 장치 (공압) 기판 셔터 (공압) 6. Vacuum Gauge Control Unit A. 고진공 측정범위 : 대기압 ~ 5 x 10E-10 TORR B. 저진공 측정범위 : 대기압 ~ 10E-4 TORR C. Magnetron Sputtering Source(3 sets) D. 각도조절 : 0 ~ 30° SIZE : 4 INCH 타겟 오염 방지 셔터 (상하 이동과 회전) 플라즈마점화용 이그나이져 TS 조절용 Z축 구동장치 Welded bellows / Stroke : 70mm E. Gas Supply unit : 가스유량조절기 (차압방식 MFC 2 개) Ar 100 Sccm O2 50 Sccm F. 가스공급라인 가스공압밸브 가스라인과 피팅 G. RF Power Supply Unit(2 sets) : RF 발생장치 (13.56MHz / 1000W) H. 주파수 자동매칭장치 (Advanced Energy) I. DC Power Supply Unit(1 set) : 1kW 직류전원발생장치 7. Auto pressure control unit : 압력제어밸브 컨트롤러 압력제어밸브 다이아프램압력센서 8. Frame & System Control Unit A. 챔버안착 프레임 (소부도장) B. 이송바퀴 및 높이조절장치 부착 C. 컨트롤러 장착 캐비넷 : 19인치 표준형 D. 전장제어판넬 : PLC + PC E. 17" LCD 판넬 PC F. 운용제어계 (LABVIEW 8.5) G. 자동공정 파라미터 설정 장비상태 표시 공정데이타 logging 등 지원 H. 셔터 시간 자동 제어 9. 유틸리티 제어 장치 : 압축공기 냉각수 10. 현재 보유 타겟 : Ti, Au, Pt, Al, Cu, Ni, Cr두개골 하부 뇌 표면에서 간질발작 등에 대한 진단용도로 사용되는 ECoG용 표면전극의 경우 다채널의 박막형태인데 이런 형태의 전극의 제작 공정 중 생체적합성 폴리머나 플라스틱 소재 표면에 금이나 은으로 금속 라인을 형성시킬 때 사용합니다. |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201407/.thumb/2014071421451528.PNG |
| 장비위치주소 | 충청북도 청주시 흥덕구 오송읍 오송생명로 123 오송첨단의료산업진흥재단 첨단의료기기개발지원센터 3층 320 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2014-07-190124 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0043812 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |