진공증착기 (열-화학기상증착장비/WS2 성장용)
기관명 | ZEUS |
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장비번호 | |
제작사 | 아텍시스템 |
모델명 | 모델명 없음 |
장비사양 | |
취득일자 | 2014-04-25 |
취득금액 |
보유기관명 | 성균관대학교 |
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보유기관코드 | |
활용범위 | |
활용상태 | |
표준코드 | B105 |
표준분류명 | |
시설장비 설명 | Cluster system에 활용되는 WS2 성장용 Chemical vapor deposition 장비로써 WS2 의외에도 다양한 Transition metal dichalcogenide 물질 합성에 활용할수 있는 장비이다.2 furnace를 장착하여 source와 기판을 위한 Heat zone을 독립적으로 온도제어할수 있으며 heater moving system을 장착하여 빠른 cooling을 할 수 있다.Transition Metal Dichalcogenides (TMDCs)물질을 합성 하는데 주력으로 사용되며 Tungsten disulfur Molybdenum Disulfur 그 밖의 Transition metal Disulfur 합성에 사용 |
장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201405/.thumb/2014053023427231.jpg |
장비위치주소 | 경기 수원시 장안구 천천동 성균관대학교자연과학캠퍼스 산학협력센터 증축동 85777 IBS 산학협력센터 7층 85777 |
NFEC 등록번호 | NFEC-2014-06-188913 |
예약방법 | |
카타로그 URL | |
메뉴얼 URL | |
원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0042520 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
주제어 (키워드) |