| 보유기관명 |
전남대학교 산학협력단 |
| 보유기관코드 |
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| 활용범위 |
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| 활용상태 |
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| 표준코드 |
C509 |
| 표준분류명 |
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| 시설장비 설명 |
Lucida D100 ALD시스템은 High-K 유전막 또는 투명전도막이나 다양한 용도의 산화물박막 제작을 위한 증착장비로서 다양한 반응가스와 Precursor를 이용하여 Si 기판 또는 유리나 기타 소재의 기판위에 원자층 단위로 박막을 증착하는 장비이며 thermal방식의 기판히터만으로 열에너지를 가하여 다양한 oxide형성이 가능하고 원자층 증착박막 특유의 step coverage가 탁월하여 다양한 소자 구조 하에서 기판과 산화물과의 계면에서 상호작용에 대한 연구가 가능하고 transistor뿐 아니라 태양과 소자 및 display등의 소자 제작에 최적의 물질과 공정조건을 수립하는 연구를 수행할 수 있는 장비이다.기존의 복잡했던 Gas/Source delivery system을 단순화시켜 CUBE형태의 Block내부에 유로들을 형성 Pulse 및 purge cycle시 가장 짧은 경로를 통해 carrier gas와 source를 챔버까지 유입시킴으로써 공정시간을 단축시킬 수 있고 기존의 길고 복잡한 가스라인 내부의 오염 시 모두 교체해야만 했던 번거로움과 비용적 부담을 없애며 오히려 손쉬운 세정작업으로 유지보수와 획일적인 온도관리를 통해 ALD공정변수를 줄임으로써 공정의 재현성을 확보한다. 아울러 소프트웨어적으로 ALD공정에 가장 적합한 Recipe환경을 구축하고 있으며 누구나 쉽고 공정변수를 입력하고 수정하며 무한 반복할 수 있도록 GUI구성이 되어있다.최근 가장 많은 관심을 받고 있는 연구분야 중 하나인 박막 Passivation공정과 관련하여 Al2O3박막을 증착하는데 사용되고 있으며 20~30nm 두께의 얇은 단일막으로도 매우 높은 WVTR값을 보여주고 있고 기존 Conventional공법으로 제작되고 있는 태양전지 소자의 에너지변환 효율을 지금보다 최소 1~2%이상 높여주는 기능성박막 역시 Al2O3를 사용함으로써 실제 국내 대기업을 통해 양산에 적용되어 수출되고 있다. 그 외에도 ZnO나 AZO등의 투명전도막 등의 응용분야에도 사용되고 있으며 더 나아가 산업용 캐패시터나 광학필터 등에도 다양한 박막두께를 가지는 ALD공법이 연구 및 적용되어 상용화되고 있다. |
| 장비이미지코드 |
http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201401/.thumb/20140122115647699.jpg |
| 장비위치주소 |
광주 북구 용봉동 전남대학교 77 전남대학교 용봉캠퍼스 산학협력공학관 지하1층 |
| NFEC 등록번호 |
NFEC-2014-01-185235 |
| 예약방법 |
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| 카타로그 URL |
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| 메뉴얼 URL |
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| 원문 URL |
http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0042298 |
| 첨부파일 |
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