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장비
장비 및 시설 기본정보
급속열처리 시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Korea Vaccum Tech |
| 모델명 | KVER-i4006L |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2014-06-02 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 오송첨단의료산업진흥재단 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C607 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 여러 할로겐 램프와 수냉식 냉각 방식 이용하여 매우 짧은 시간에 챔버의 온도를 고온으로 온도를 올렸다 내릴 수 있게 하는 장비로서 마이크로 소자 센서소자 박막전극 유연전극 등의 제작 공정 중 증착된 금속막과 기판사이의 저항을 줄이거나 금속막 자체 저항 개선 기판과 증착된 금속과의 접착력 개선을 위한 Annealing 공정시 활용됨- Max wafer size : 6 inch - Heating Rate : 1℃ ~ 100 ℃/sec - Temperature Control Range : 100℃ ~ 1000℃ - Temp. Control Fluctuation : ±5℃ - Temp. Uniformity : ±5℃ (for 2” ~ 6” wafer) - Heating Elements : Quartz Lamps - Steady State Duraton : Available max. 60s (dependent on 300℃~ 1000℃) - Temp. Sensor Thermocouple / Pyrometer - 사용 Gas : N2 (with 2 spare space)- 마이크로 소자 유연 전극 박막전극 등의 제작 공정 중 증착된 금속막과 기판사이의 저항을 줄이거나 금속막 자체 저항 개선 기판과 증착된 금속과의 접착력 개선을 위해 활용됨 - 증착된 절연막인 질화실리콘 박막 실리콘 산화막 실란막 등의 결합력을 강화하여 절연 성능을 강화시키는데 활용됨 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201407/.thumb/20140714201342481.jpg |
| 장비위치주소 | 충청북도 청주시 흥덕구 오송읍 오송생명로 123 오송첨단의료산업진흥재단 첨단의료기기개발지원센터 3층 320 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2014-07-190105 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0040870 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |