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플라즈마 원자층 증착 시스템

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보유기관명	대구경북과학기술원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C509
표준분류명
시설장비 설명	- 플리즈마 원자층 증착 시스템(plasma Atomic Layer Deposition System) 장비설명 : 각종 소자(센서 FET 등) 제작 시 유전체막 투명전도막 보호막 금속박막 등을 원자층단위로 제어 하여 증착하는 장비1) Process wafer : piece ~ 8“ size 2) Semiautomatic system 3) PM2(Plasma type) - Process chamber : ≤ 5 x 10E-3Torr - Substrate heater unit · Type : Molded heater(micro sheath) Max. temperature : 350℃ - RF power supply · RF generator : Output power 1000W · Matching network : Auto matching type - Source canister & heating block : SUS Body 180cc EP Grade 3ea · Hot source line : 2ea · Cool source line : 1ea - within wafer(≤±2% 1-sigma)우수한 step-coverage 특성으로 고종횡비의 구조물에 대한 유전체막 투명전도막 보호막 금속박막 등을 원자층 단위로 증착하는 공정에 활용 반도체 MEMS 기술연구 및 제품개발
장비이미지코드	http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201310/.thumb/2013101795625668.jpg
장비위치주소	대구 달성군 현풍면 상리 50-1 대구경북과학기술원 중앙기기센터 2층 205
NFEC 등록번호	NFEC-2013-10-183558
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0038958
첨부파일