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장비
장비 및 시설 기본정보
고주파 및 직류 마그네트론 스퍼터링 시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 코리아바큠테크(Korea Va |
| 모델명 | KVS-5000L |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2013-05-03 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 서울대학교 산학협력단 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C506 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | SPUTTER SYSTEM은 증착하고자 하는 물질(TARGET)을 SPUTTERING SOURCE 에 장착하여 R.F 또는 D.C POWER를 인가하면 Ar GAS 이온들이 기장착된 TARGET에 충돌하여 TARGET의 입자가 원하는 기판 (SAMPLE)에 증착될수 있도록 하여 원하는 FILM(박막)을 얻기 위한 장치이다. 고체인 타겟재를 막의 원료로 하는 방법이므로 물리적증착법의 일종이다. 스퍼터링법은 피막의 다양성면에서 다른 물리적 진공증착공정에 비교하여 뛰어나다.Ⅰ. 일반사양 -. 금속 및 산화물 진공 증착용 장비 -. 증착시편크기 : 조각시편부터 2 인치 -. 장비제어방식 : PLC + PC (인간친화적그래픽구현 자동) -. 장비안전 : 진공냉각수압축공기와 시스템 간 안전 연동 방식 -. 증착챔버 + 로드락챔버 -. 스퍼터링 소스 : 6 set Ⅱ. 성능 -. 시편가열온도 및 균일도 : ± 5도 이내 @ 1000도 -. 시편증착균일도 : ± 3% 이내 -. 진공도달능력 : 2 x 10E-7 torr @ 1시간이내 -. Ultimate Pressure : 5 x 10E-9 Torr본 장비는 보통의 스퍼터와는 달리 축외(off-axis) 방식을 사용하여 증착 속도가 상대적으로 느리다. 따라서 물질의 에피 성장이 용이하고 결과적으로 고품질의 박막을 만들 수 있다. 또한 본 장비는 새로운 계면 현상을 연구할 수 있는 다양한 산화물 초격자 제작을 위하여 5개의 고주파수 스퍼터 건을 포함하고 있다. 뿐만 아니라 스퍼터 건의 위치 (z-axis translation)를 조절할 수 있어 증착 속도를 쉽게 바꿀 수 있다. 때문에 도핑의 비율을 손쉽게 다양하게 할 수 있고 다양한 비율의 혼합물을 만드는 데도 용이하다. |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201305/.thumb/20130530141840952.jpg |
| 장비위치주소 | 서울 관악구 대학동 서울대학교자연과학대학 산 56-1 서울대학교 19동 (자연과학대학) 4층 409 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2013-06-179492 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0038796 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |