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기판 전처리 시스템

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보유기관명	전자부품연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	A400
표준분류명
시설장비 설명	짧은 파장의 자외선(185 nm 및 254 nm)을 이용하여 기판표면의 표면에너지를 조절하여 잉크인쇄 및 박막코팅을 위한 조건형성에 활용하는 한편 자외선을 이용하여 유기오염물질을 제거하는 장치.1. UV lamp: - Material: Low pressure Mercury Vapor Grid Lamp - 파장: 184.9 nm/ 253.7 nm - Intensity: 28mw/㎠ (254nm) from 6mm Dist - Uniformity: ± 10% - 램프외장: Suprasil Quartz 2. 챔버: - Tray size:　24인치 × 16인치 (609.6 × 406.4mm) - 소재: SUS - 사용가능 기판두께: 0.4-1.1 mm- 유리기판 및 실리콘 wafer 등의 표면오염물질(유기물)제거 - 자외선을 조사함으로 써 기판의 표면에너지를 높여 잉크류의 코팅특성개선 - 잉크 및 페이스트 인쇄 후의 잔류 유기물 제거에 활용
장비이미지코드	http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201306/.thumb/2013062018460475.JPG
장비위치주소	전북 전주시 덕진구 팔복동2가 820번지 전자부품연구원 나노기술집적센터 3층
NFEC 등록번호	NFEC-2013-06-180163
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0039564
첨부파일