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유도결합플라즈마-광방출분광기

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보유기관명	(주)LG실트론
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	B511
표준분류명
시설장비 설명	300mm EPI Wafer에 존재하는 Metal 불순물을 분석하고 고품질의 Si Wafer 제조를 위해 사용되는 원/부자재의 Metal 불순물 분석을 하는 장비로 한번에 73종의 원소를 동시에 분석 가능함.Varian ICP-OES 730 ES 모델은 시료 당 처리 속도가 60초로 기존 장비 대비 빠르며 한번에 73종의 원소를 동시에 분석 가능함. 또한 측정 가능한 TDS (total dissolved solid)양이 최대 5%로서 고체 매질 시료를 간단한 전처리를 통하여 분석할 수 있는 장점이 있음. 검출 원소 수 : 73종 분석 처리 시간 : 60초/시료 처리 가능 TDS 양 : < 5%적용 원부자재 : Slurry KOH Quartz Grease 분석 범위 : ppt ppm 1. 원부자재 불순물 분석 기술 개발 2. 웨이퍼 영향 주요 원부자재 파악 3. 관리 기준 재 설정 업체 Leading을 통한 원부자재 수준 향상
장비이미지코드	http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201306/.thumb/20130605122717765.jpg
장비위치주소	경상북도 구미시 임수로 53 (임수동) LG실트론 연구소 랩 1층
NFEC 등록번호	NFEC-2013-06-179737
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0038501
첨부파일