메탈 스퍼터링 시스템
기관명 | ZEUS |
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장비번호 | |
제작사 | 소로나 |
모델명 | SRN-120 |
장비사양 | |
취득일자 | 2009-09-04 |
취득금액 |
보유기관명 | 울산과학기술원 |
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보유기관코드 | |
활용범위 | |
활용상태 | |
표준코드 | C506 |
표준분류명 | |
시설장비 설명 | - 고진공 상태에서 플라즈마를 이용한 메탈 스퍼터링 하는 장비로 기판 상에 메탈전극이나 여러 가지 종류의 금속 박막을 다층으로 증착이 가능하고 두 가지 이상의 금속을 동시에 증착이 가능한 장비이다. 박막 형성에 필요한 기체를 반응실에 도입시킨 후 적절한 반응조건하에서 플라즈마를 발생시켜 타깃 물질의 물리적으로 떼어내어 기판에 박막을 형성하는 장치로 1개의 Process Module에서 증착이 이루어지고 또 다른 1개의 로드락 챔버를 통해 진공상태에서 기판을 이송할 수 있는 장치- Substrate size : 4 ~ 6 inch wafer - Substrate rotation speed : 0 ~ 60 rpm - RF Pre-cleaning : 300 W automatic RF matching - Substrate Heating temp. : 500℃ ± 3% - Target : Ti/Ta/Cr/Cu/Ni/Al/Mo/W/Ag metal deposition - Target size : 4inch (Thickness : 6.35 mm) - Number of target : Max 4 different targets - Available multi-layer processing - Power source : 3 kW DC power processing - Film uniformity : less than ± 5%- 반도체, MEMS, 바이오, 태양전지 등 신소재 물질의 박막 연구 - 증착 가능 물질 : Cu, Ti, Al, Cr, Mo, Ta, Ni, Ag, W, Co 등의 metal 박막 증착 |
장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201209/.thumb/20120927103036.jpg |
장비위치주소 | 울산광역시 울주군 언양읍 유니스트길 50 울산과학기술대학교 자연과학관 1층 B101호 |
NFEC 등록번호 | NFEC-2012-09-171221 |
예약방법 | |
카타로그 URL | |
메뉴얼 URL | |
원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0035105 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
주제어 (키워드) |