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장비
장비 및 시설 기본정보
전계방사형주사전자현미경/에너지분산X-선/파장분산분광법
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Tescan |
| 모델명 | MIRA 3 LMH Inbeam detector |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2012-12-14 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국화학연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | A206 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 1. 고 에너지의 전자빔이 시편의 표면을 주사할 때 전자와 시편의 상호작용에 의해 시편 표면으로 방출되는 전자들(backscattered electrons secondary electrons Auger electrons 등)과 X-ray를 모아 증폭시켜서 시료의 표면형태의 관찰 및 성분분석을 하는데 이를 측정하는 기기이다. 2. FE-SEM/EDS만 있을 경우 한번에 sample의 정보를 얻을 수 있지만 농도가 3%까지만 가능하고 FE-SEM/WDS만 있을 경우는 각 원소마다 맞는 crystal을 선택해 분석하면 시간이 오래 걸리는 반면 정확도가 높아 낮은 ppm단위까지 분석이 가능하고 또한 중첩되는 peak까지 구분이 가능하다. 3. FE-SEM/EDS/WDS가 함께 있을 경우 EDS로 샘플에 대한 전체적인 정보를 얻고 WDS로 좀 더 정밀하게 sample 측정이 가능하고 micro sample의 특정분위(원하는 부위)를 관찰하며 정성 정량 분석이 가능하다.1. SE : 1.0 nm at 30 KV 2. De-acceleration mode:1.5nm at 3 KV 2.0nm at 1KV 2.5nm at 200V 3. BEI: 2.0nm at 30KV : Magnification at 30KV Maximum of field of view: 70mm(high vacuum mode) 55mm(with in-beam SE) Electron gun : high brightness schottky emitter Dynamic focus Scanning Vacuum chamber Specimen chamber Specimen stage Easy sample navigation Detectors: In beam detector IR chamber view camera CL detector Software Accessories: Sputter coater EDS/WDS1. 고체 표면 형상 및 성분 분석 2. 고분자 첨가제 등의 고체 표면 형상 및 구성성분 분석 등 3. 유·무기 나노 복합체 및 기능성 나노 입자의 morphology 분석 4. 석유화학 촉매 성분 및 morphology 분석 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201301/.thumb/A-41-2012-0014-B.jpg |
| 장비위치주소 | 울산광역시 중구 유곡동 895-4 317호 한국화학연구원 그린정밀화학연구센터 3층 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2013-02-175013 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0036487 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |