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장비
장비 및 시설 기본정보
반도체 웨이퍼 건조기
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 케이에스엠 |
| 모델명 | KSD8001 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2010-04-28 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 울산과학기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C502 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 세정이 완료된 Wafer를 고속 회전시켜 물기를 제거하고 따뜻한 질소(hot N2)를 이용하여 건조시키는 장치로써 실리콘 웨이퍼 및 Glass 웨이퍼에 대하여 카세트 단위로 DI water 세정 및 건조를 진행할 수 있는 장비. 본 장비의 사용과 관련하여 사용할 웨이퍼 카세트와 웨이퍼의 사용 조건을 확정하는 것이 가장 중요한 요소중 하나이다. 이 조건에 따라서 카세트를 담는 로터(ROTOR)의 발란싱(Balancing)을 최적화하는 것이 필요하다.Wafer size : 50~300mm - Batch size : 25 - Max RPM : 2800 - Maximum Recipe : 5 - AMPS : 20 - Nitrogen Flow : 113~170 l/min - DI Water Flow : 5.7~7.6 l/min- MEMS 및 CMOS semiconductor device Bio chip 등의 제작시 photo lithography 및 E-beam lithography process 이후 높은 청정도를 위한 cleaning 공정이 요구될 시 batch 형태로 rinsing 및 dry . - 감광재 현상 및 습식 처리 공정을 진행하고 DI water로서 Cleaning한 후 건조하는 장치. - Solvent wet process 이후 회전을 동반한 D.I washing cleaning 및 dry - Etching wet process 이후 회전을 동반한 D.I washing cleaning 및 dry - MEMS wet process 이후 회전을 동반한 D.I washing cleaning 및 dry |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201210/.thumb/20121016142845.jpg |
| 장비위치주소 | 울산광역시 울주군 언양읍 유니스트길 50 울산과학기술대학교 자연과학관 1층 B101 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2013-01-174216 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0035137 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |