듀얼집속이온빔장치
기관명 | ZEUS |
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장비번호 | |
제작사 | Hitachi |
모델명 | NB 5000 |
장비사양 | |
취득일자 | 2011-03-30 |
취득금액 |
보유기관명 | 대구경북과학기술원 |
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보유기관코드 | |
활용범위 | |
활용상태 | |
표준코드 | A200 |
표준분류명 | |
시설장비 설명 | Dual Beam Focused Ion Beam system - 접속 이온빔의 식각 특성을 활용하여 미세 영역의 단면을 가공 후 전계 방사형 전자현미경으로 단면 이미지 관찰 성분분석 등의 다양한 분석 작업을 가능하게 해주는 장비 - 고난위도의 기술을 요하는 투과전자현미경용 시편가공이 가능함.- Ion Optics ·ion source : liquid Ga ion emitter ·lens system : low abberation 2-stage electrostatic lens - Electron optics ·electron source : ZrO/W schottky emmission ·lens system : 3-stage electromagnetic lens Super E cross B filter system.- 듀얼집속이온빔장치는 미세구조의 단면 관찰이 가능하며 특히 초 저진공 기능이 포함되어 있어 비전도성 및 바이오 샘플의 코팅 없는 관찰을 가능하여 여러 연구개발 분야에서 활용 되고 있음. |
장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201211/.thumb/20121115172903.jpg |
장비위치주소 | 대구 달성군 현풍면 상리 50-1 대구경북과학기술원 중앙기기센터 1층 102 |
NFEC 등록번호 | NFEC-2013-02-174968 |
예약방법 | |
카타로그 URL | |
메뉴얼 URL | |
원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0035839 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
주제어 (키워드) |