대면적용 선형이온소스 및 평가시스템
기관명 | ZEUS |
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장비번호 | |
제작사 | 에이티 |
모델명 | 모델명 없음 |
장비사양 | |
취득일자 | 2012-10-22 |
취득금액 |
보유기관명 | 재료연구소 |
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보유기관코드 | |
활용범위 | |
활용상태 | |
표준코드 | C519 |
표준분류명 | |
시설장비 설명 | WPM 과제(과제명: Zn-Mg 및 Zn-free형 Al-Mg계 표면처리 강판소재)를 통해 강판스트립 표면상에 존재하는 산화물을 고속으로 에칭할 수 있는 고속형 0.3m급 선형이온소스 대면적용 1.5m급 선형이온소스 및 평가시스템으로 구성되어있다.-강판 스트립 표면전처리용 선형이온소스 및 평가시스템으로 구성. 1) 고속화 달성을 휘래 일부 설계 변경된 0.3m급 선형이온소스. 2) 대면적화 대응을 위한 1.5m 선형이온소스. 3) 1.5m급 선형이온소스 평가용 시스템.WPM 과제를 통해 본 연구실에서는 강판 표면상에 존재하는 산화물을 고속으로 에칭할 수 있는 선형이온 소스 개발을 위한장비. 본 연구실에서 이전에 설계/개발된 선형이온소스의 우수성을 확인하였으며 추가로 안정성 및 고속화를 위해 기존에 개발된 선형이온소스에서 구조 변경을 통한 선형이온소스의 고성능화를 달성하기 위함. 또한 주관기관인 포스코에서 1.5m 광폭 강판 스트립에 대한 표면처리 설비를 구축하고자 하여 이에 연구결과를 바탕으로 개발된 1.5m급 선형이온소스에 대한 평가를 할수 있는 평가시스템. |
장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201305/.thumb/20130524132118629.JPG |
장비위치주소 | 경남 창원시 성산구 상남동 66번지 재료연구소 본관 지하1층 H010-1 |
NFEC 등록번호 | NFEC-2012-10-171779 |
예약방법 | |
카타로그 URL | |
메뉴얼 URL | |
원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0035562 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
주제어 (키워드) |