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장비
장비 및 시설 기본정보
고주파 스퍼터링 증착기
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 소로나 |
| 모델명 | SRN-120 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2012-10-17 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 울산과학기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C506 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | SRN-120D Sputtering system is a multipurpose tool generating plasma inside chamber by supply 13.56Mhz rf power to cathode and capable of deposition thin film of insulator on wafer by sputtering a insulator target by self bias voltage. This device was designed to enable multi layer processing and co-processing with a maximum four targets.- Substrate size : 4 ~ 6 inch wafer - Substrate rotation speed : 0 ~ 60 rpm - RF Pre-cleaning : 300 W automatic RF matching - Substrate Heating temp. : 500℃ ± 3% - Target : ITO ZnO SiO2 Al2O3 TiO2 - Target size : 4inch (Thickness : 6.35 mm) - Number of target : Max 4 different targets - Available multi-layer processing - Power source : 13.56 ㎒ RF power processing - Film uniformity : less than ± 5% using oxide material- Thin film for semiconductor devices & next generation high density near-field optical disk - Magnetic thin film for optical communication - Thin film for optical sensor and filter & thermo sensors - Electrode for piezoid (SAW and FBAR device) |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201210/.thumb/20121018225229.JPG |
| 장비위치주소 | 울산광역시 울주군 언양읍 유니스트길 50 울산과학기술대학교 자연과학관 1층 B101호 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2012-10-171940 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0035556 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |