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장비
장비 및 시설 기본정보
전자선 노광장치 시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Nano Beam |
| 모델명 | nB3 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2010-10-15 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 울산과학기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C501 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 전자선 감광재를 도포한 시료 면에 전자빔을 조사하여 감광재를 구성하는 고분자를 결합 또는 절단하여 시료 면상에 패턴을 형성하는 장비이다. 본 장비는 레이저 측정분해능에 가까운 정밀도로 가능하며 웨이퍼기판상에 직접 리소그래피 함으로써 다른 공정처리에 의해서 형성한 패턴과 연계하여 선의 폭이 1마이크로미터(㎛) 이하인 고정밀도의 미세패턴 형성이 가능하여 초고밀도 집적 회로를 제작하기 위한 미세 가공 기술로서 사용될 수 있다.Theoretical beam size : 2.1 nm @100 keV 7 nA Line width : < 5 nm Deflection : vector scan 55 MHz Address grid resolution : 1 nm 1 mm main field Beam voltage : 30 ~ 100 keV Writing area : 195 mm × 195 mm Substrate size : 5 ~ 200 mm Automation : 10 chucks automatic loading Repeatable : 20 nm over wafer형성한 패턴과 연계하여 선의 폭이 1마이크로미터(㎛) 이하인 고정밀도의 미세패턴 형성이 가능하여, 초고밀도 집적 회로를 제작하기 위한 미세 가공 기술로서 사용될 수 있다. Application nm level device fabrication, Generating fine patterns, Optical device fabrication, Contacts for Nanowires/rods, etc. |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201209/.thumb/20120927112202.jpg |
| 장비위치주소 | 울산광역시 울주군 언양읍 유니스트길 50 울산과학기술대학교 자연과학관 지하1층 B101호 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2012-09-172237 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0035115 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |