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실리콘습식식각장치

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보유기관명	(주)시지트로닉스
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C510
표준분류명
시설장비 설명	실리콘 표면이 실리콘질화막이나 실리콘산화막 등의 각종 절연막이나 다결절실리콘 등이 앞면에 도포된 웨이퍼의 뒷면을 습식식각하는데 사용되는 장비로서 6인치 실리콘 웨이퍼에 대하여 사용가능하다. 실리콘을 식각하고자 할 때는 실리콘 Etchant를 사용한다. Etchant와 Etching 시간에 따라서 습식식각에 가능하다. 대략 수A~40A 이하를 식각할 때 사용된다. 필요에 따라서 뒷면을 경면으로 하는 식각을 하여 웨이퍼 뒷면에 금속을 도포하고 확산하는 공정에 응용이 가능하고 엠보싱구조로 식각을 하여 후속으로 웨이퍼 뒷면에 금속을 이빔증착하기 용이하게 하루 수도 있다.웨이퍼: 6인치 실리콘 웨이퍼 - 사전 조치사항: 웨이퍼 전면에 절연막이나 다결정실리콘이 도포되어 있어야 함 - 식각량: ~40A
장비이미지코드	http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201208/.thumb/20120830175518.JPG
장비위치주소	전북 전주시 덕진구 덕진동1가664-14(주)시지트로닉스 전북대반도체공정연구센터4-2동
NFEC 등록번호	NFEC-2012-08-169835
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0034751
첨부파일