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장비
장비 및 시설 기본정보
확산로
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 리드엔지니어링 |
| 모델명 | LDF-8100 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2012-01-06 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 전북대학교 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C601 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 본 장비는 태양전지 제조용 불순물(dopant) 확산 장비로서 버블러를 통해 미세화 된 BBr3 용액을 Quartz tube 안으로 주입시켜 Si 기판에 Boron막을 형성시키고 동시에 고온 열처리를 통해 인을 Si 내부로 확산시켜 p-n 접합을 형성하는 장비이다. 장비는 크게 내부와 외부 자동화 구성으로 구분된다. 1) Tube Unit ① Heater 사양 - Kanthal A-1 Wire Molding Type - 열선 : Kanthal A-1 Wire - Power : 380V 3P 30KW ② Insulation - High Temp Alumina Board - High Temp Ceramic Fiber ③ Temp Sensor - R-Type Thermocouple - 소선 : Ø1.2 - 절연관 : High Alumina Tube -보상도선 : R-Type 규격 ④ Tube Mask : SUS304 Water Cooling - GAS IN OUT Line - Water Line구동 방식 ⑤ Tube Door 자동개폐 장치 ➅ Tube Size : ID Φ300 × OD Φ308 × 1300 L 2) Tray Feeding Unit ① Tray Material : Quartz ② Wafer Loading Q'ty : 30sheet ③ Tray Up & Down Unit : Linear Module+Servo Motor 3) Gas Delivery Unit ① MFC 사용 : O2(20L/min) N2(20L/min) C-N2(10L/min) ② Dopant : BBr3 용액 ③ 항온조 사용 : 15 ~ 30±0.1℃ 자동 조절 ④ 배기량 자동조절 - Manual Teflon Valve 사용 - Manometer 사용 - BBr3 용액 Filter Tank 사용 4) Frame Enclosure System 지지용 하부 Frame 및 안전용 Enclosure 5) 제어방식 : PID PLC 제어/3 Zone ① Program PID Control/3 Zone ② UP-550 Controller(YOKOGAWA) ③ P/C Controll(Pentium4이상) GUI환경 ④ Data취합 및 Trend기능 ⑤ 과열차단장치 6) Utility ① Power(3상 4선) ② Gas : N2O2(Regulator & Manual V/V) ③ CDA (Regulator & Manual V/V) ④ PCW ⑤ BBr3배기(Wet-Scrubner포함)- n-type wafer에 boron을 도핑하여 태양전지 제작 - boron doping의 새로운 공정기술 연구 개발 - 반복적인 실험을 통한 p-type doping 기술을 위한 레시피 구축 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201207/.thumb/20120726151732.jpg |
| 장비위치주소 | (우)561-756 전북 전주시 덕진구 덕진동 1가 664-14 전북대학교 공과대학 8호관 114호 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2012-07-167859 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0034383 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |