- HOME
- 기술정보
- 장비
장비
장비 및 시설 기본정보
후막 전기 물성 측정용 파라미터 아널라이져
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 엠에스테크 |
| 모델명 | MST-8000 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2012-01-27 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국세라믹기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C514 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | thick film 및 thin film의 leakage current resistivity 또는 semi-conductor의 특성 측정 더 나아가 소자의 구동 특성을 측정할수 있다.Probe station main body Unit 1) 8" ambient coaxial chuck_Low leakage current chuck 2) Vacuum chuck : center hold on&off switch 3) Z stage : fine motion up&down : 10mm 4) XY stage : travel 200x200mm fine motion 5) Plate unit for 8 positioner set(max) 6) Available vacuum swith onoff at 6 port 7) Microscope mount XY stage fine motion(50x50mm) Microscope(maximum:800x)_High Resolution Scoepe 1) High resolution microscope 2) Eyepiece : 20x(dual) 3) Zoom : 1 - 2x 4) Object Lens : 2x 10x 20x 5) Total magnification : 800x(max) 6) Fiber illuminator volume control type 7) CCD Camera Precision System 8) Velcam_CVC5220 9) CCD C-mount 10) 12"LCD Moniter Dual Port Ceramic hick film 및 thin film의 Leakage current 측정 : I-V Conductor의 저항 측정 : I-V Semiconductor의 특성 측정 : S/D/G 소자의 구동 특성 측정 : S/D/G-thick film 및 thin film의 leakage current resistivity 또는 semi-conductor의 특성 측정 더 나아가 소자의 구동 특성을 측정할수 있다. |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201308/.thumb/20130814203835620.JPG |
| 장비위치주소 | 경상남도 진주시 소호로 101 (충무공동) 한국세라믹기술원 본관동 1층 106 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2012-02-154757 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0031135 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |