| 보유기관명 |
한국과학기술연구원 |
| 보유기관코드 |
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| 활용범위 |
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| 활용상태 |
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| 표준코드 |
C506 |
| 표준분류명 |
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| 시설장비 설명 |
기판을 장착한 후 진공펌프를 통해 진공상태를 유지하여 스퍼터링법으로 박막을 증착하며 배치타입의 공정이 가능한 Encapsulation 관련 박막 증착용 스퍼터시스템입니다. 챔버는 1개로 구성되어 있으며 Dry pump 등으로 진공을 유지합니다. 장착가능한 기판의 크기는 최대 100mm×100mm 이며 증착 가능 기판은 유리기판 플라스틱 필름 플라스틱 판재등입니다. 총 1개의 타겟을 사용할 수 있으며 현재 증착용 타겟으로는 Al Ti Si 가 구비되어 있습니다. 증착은 수십나노미터에서 수백나노미터 두께로 증착할 수 있으며 Al Ti Si 등의 금속 박막 Reactive 스퍼터링을 통한 Al2O3 TiO2 SiO2산화물 박막 증착가능합니다. 증착은 기판을 챔버내에 삽입하여 증착되며 스퍼터링 파워 전원은 Pulsed DC 전원 또는 RF 전원 또는 DC 전원을 이용하여 최대 파워는 1kW 까지 인가 가능합니다. 기저압력까지 펌핑 시간은 최대 3시간에서 1시간 이며 기저압력은 5×10-6 Torr입니다. 작동압력은 3×10-4 Torr에서 10×10-3 Torr까지 유지할 수 있으며 증착용 가스는 불활성 기체 또는 반응성 기체 모두를 사용할 수 있습니다. MFC 추가에 따라 시 최대 4 종류의 증착용 가스를 주입하면서 증착공정을 진행할 수 있습니다. |
| 장비이미지코드 |
http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201310/.thumb/20131024153413771.jpg |
| 장비위치주소 |
서울 성북구 월곡2동 과학기술연구원 39-1번지 한국과학기술연구원 연구동(L3) 1층 L3165 |
| NFEC 등록번호 |
NFEC-2012-05-163486 |
| 예약방법 |
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| 카타로그 URL |
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| 메뉴얼 URL |
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| 원문 URL |
http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0033105 |
| 첨부파일 |
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