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장비 및 시설 기본정보
세라믹 테잎 캐스팅 장비
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 우신하이텍 |
| 모델명 | WS-C 300 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2011-09-16 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국전기연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C204 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 본 장비는 세라믹분말을 유기물과 혼합하여 얇은 후막을 성형 건조 권취하는 장비이며 장비특성상 제작 가능한 후막의 두께가 20 ~ 150㎛이고 폭은 200mm 이상의 크기 이어야 한다. 이러한 후막이 상온에서 120도까지 온도 범위에서 건조가 가능하여야 하며 1회 실험에서 20~80kg의 량을 연속적 제작이 가능한 장비임 -. - 20 ~100 ㎛ 두 - 캐스팅 조건 1) 캐스팅 후막 폭 = 최대 100 ~ 200mm CASTING HOPPER 로 폭 조절 2) 캐스팅 후막 두께 = 20 ~ 150㎛ (±2%)-전체 장비 사양 1) 장비 크기 : 8000 미만(가로)×2000 미만(높이)×1100 미만 (폭) (단위: mm) 혹은 이에 준하는 크기 2) 장비 코팅 속도 : 0.2~10 m/min 3) 롤 크기 : 280 mm혹은 이에 준하는 크기 4) 가용온도 : 60~120℃ 90 ℃ 이상 5) 전원 : 220V 60Hz 6) 전원 소비 전력 : 30 KW Max 7) 압축 가스 : 5Kg/㎠ 8) 건조로: 2 혹은1.5 M × 3 혹은 4 ZONE = 5.5 ~ 6M 혹은 이에 준하는 건조 크기 (ZONE 별로 온도조절 ) 9) 캐스팅 방법 : COMMA DIRECT 혹은 Doctor Blade께의 세라믹 후막을 정밀도 2% 이내로 제작하는 장비로써 하나의 Batch로는 최저 300 g부터 최대 80 kg 까지 사용 가능함.null |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201203/.thumb/20120326130444.jpg |
| 장비위치주소 | 경남 창원시 성산구 성주동 불모산로10번길12(성주동28-1) 한국전기연구원 제3연구동 5층 3517 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2012-03-161755 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0031749 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |