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장비
장비 및 시설 기본정보
고온진공열처리 시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 아이씨티 |
| 모델명 | 모델명 없음 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2011-03-15 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국광기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C209 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | - 고출력 레이저 광학부품의 박막 조밀도(packing density) 증대 및 광학상수(n k) 특성 향상용 - 레이저 부품의 고온 고열 접합용 - 고출력 레이저 광학부품의 환경․신뢰성특성 향상용- Vacuum dry oven system with clean process for high purity DPSS laser components - Oilless type pumping system with ultimate pressure below 5×10-6 torr - Configure for easy repair and maintenance - Inner chamber dimension : φ300mm×h400mm - 2 stages dry and turbo pumping system - Max. operation temperature 600℃ with temp. uniformity within ±3℃ - SiC polished sheet heater and digital recorder고출력 레이저용 유전체박막의 공정 후 진공열처리 고출력 또는 UV 대역에 사용되는 고내구성 광학박막에 대한 열처리를 통한 특성 향상 또는 초저손실 특성의 자이로 미러 구현을 위한 연구개발 및 기업지원에 활용 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201109/.thumb/20110916200522.jpg |
| 장비위치주소 | 광주 북구 월출동 971-35 한국광기술원 시험생산1동 1층 1706호 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2011-09-148474 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0029942 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |