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제논 실리콘 에처

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보유기관명	한국전자통신연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C510
표준분류명
시설장비 설명	XeF2 가스를 이용하여 실리콘을 등방 식각하는 장비임. 실리콘 이외에 산화막/질화막/금속/폴리머는 손상되지 않음 - Table Top System - 조각~6“ wafer까지 모두 사용가능 - Typical etch rate: 2um/min - 120V or 220V AC / 10Amps max. - 300cc(600g) XeF2 soruce bottles - Dimension: 60cm x 50cm x 73cm- iMEMS 음향센서 제작 : 음압 분산용 공간 형성을 위한 실리콘 기판 식각 공정 진행 - 복합 환경센서 제작 : MEMS 가스센서에서 마이크로히터를 열적 격리를 위한 실리콘 기판 식각 공정 진행 - 압전 기반 MEMS 자가충전 소자 제작 : 압전 엑추에이터 구조체를 공중에 부양 시키기 위한 실리콘 기판 식각 공정 진행
장비이미지코드	http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201109/.thumb/20110916093355.jpg
장비위치주소	대전광역시 유성구 가정로 138 한국전자통신연구원 4동
NFEC 등록번호	NFEC-2011-09-148491
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0029925
첨부파일