전자빔증착기
| 기관명 | ZEUS |
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| 장비번호 | |
| 제작사 | 코리아바큠테크(Korea Va |
| 모델명 | KVE-E4000 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2011-07-15 |
| 취득금액 |
| 보유기관명 | 영남대학교 산학협력단 |
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| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C504 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | Metal Lift-off for GaN epiwafer. Alloy metal coating Multi layer or monolayer materials coating Wafer Stage (substrate holder) CAPACITY : 2” Sapphire Si GaN Wafer Loading (42 Pocket Tray) 4" Sapphire Si GaN Wafer Loading (5 Pocket Tray) 6“ Sapphire Si GaN Wafer Loading (3 Pocket Tray) FILM DEPOSITION UNIFORMITY : ±5% 이내(STD DEV.) WITHIN WAFER WAFER TO WAFER RUN TO RUN E-BEAM SOURCE 6 PKT 25CC ROTATABLEE-BEAM SOURCE 6 PKT 25CC ROTATABLE E-BEAM SOURCE 10KW POWER SUPPLY WITH PROGRAMABLE XY SWEEP TUNGSTEN CRUCIBLE LINER(25cc): 2 EA COPPER CRUCIBLE LINER(25cc) : 6 EA GRAPHITE CRUCIBLE LINER(25cc) : 10 EA QCM CONTROLLER 4 CHANNEL TYPE / COMPUTER INTERFACE CONTROL RIGHT ANGLE CRYSTAL SENSOR HIGH RESOLUTION ±0.03Hz AT 10 READING/SEC Pumping Station PROCESS CHAMBER : CRYO + ROTARY ULTIMATE PRESSURE : BELOW THAN 5 x 10-7 Torr BELOW THAN 2 x 10-6 Torr WITHIN 30min. AT INTIAL PUPMPING Vacuum Gauge Controller with Vacuum Transducer |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201110/.thumb/20111028102126.jpg |
| 장비위치주소 | 경북 경산시 대동 영남대학교 214-1번지 영남대학교 CRC 1층 CRC 클린룸 (102호) |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2011-10-149782 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0030220 |
| 첨부파일 |
| 과학기술표준분류 | |
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| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |