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장비
장비 및 시설 기본정보
마스크 정렬 노광장치
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Suss MicroTec |
| 모델명 | MA6 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2003-07-01 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 동국대학교 산학협력단 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 본 장비는 자외선 광원(UV Lamp)을 사용하여 기판 위에 도포된 감광막(Photo Resist)에 원하는 패턴을 형성하는 장비이다. 시편 Size 최대 약 3cm * 3cm 시편(기판) 공정이 가능하며 최소 구현 가능한 패턴 크기는 선폭 약 2um이다.본 장비는 Main장비 및 Microscope 미세판 패턴 형성시 확대하여 볼 수 있는 Monitor Power Supply Air를 공급할 수 있는 comp system LN2 Gas를 공급할 수 있는 시설등으로 구성된다. 최소 Size 2um 패턴 형성이 가능하다. Substrate : Max. 3cm * 3cm UV Lamp : 350W(Wave length : 405nm)Photo Resist Pattern 형성 UV Lamp 광원을 이용한 wet etching. |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201102/.thumb/20110218114935.JPG |
| 장비위치주소 | 서울 중구 필동3가 동국대학교 26-1 동국대학교 정보문화관P 지하2층 청정실 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2011-02-143403 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0028152 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |