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장비 및 시설 기본정보
급속열처리장비
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 에스엔텍 |
| 모델명 | RTP 5000 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2008-03-06 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 삼성전기 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C601 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | - 진공 혹은 가스 (질소 산소 아르곤) 분위기에서 200~900 ℃ 열처리가 가능한 장비 - 시간에 따른 승온 속도 조절 감온 속도 조절이 가능한 하여 재료의 열처리 및 결정화 등이 가능한 장비 - MFC (Mass Flow Controller) : - Flow Control Range : 0~1000 sccm - 3종류 가스:아르곤 질소 산소 - MAX. Temp. 1000 동작온도:200~900 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201102/.thumb/20110214102318.jpg |
| 장비위치주소 | 경기 수원시 팔달구 매탄동 314 삼성전기 중앙연구소 AMD랩 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2011-02-140801 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0026481 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |