전자선 고진공 증착장치
| 기관명 | ZEUS |
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| 장비번호 | |
| 제작사 | ULVAC |
| 모델명 | EBX-1000 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2002-07-11 |
| 취득금액 |
| 보유기관명 | 한국과학기술연구원 마이크로나노팹센터 |
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| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C504 |
| 표준분류명 | 시험·검사장비 |
| 시설장비 설명 | MEMS 구조물을 제작하는 필수적인 공정장비임. 전자들이 갖는 운동에너지가 국부적으로 섭씨 3000도가 넘는 높은 열을 낼 수 있음. 증발 압력이 낮은 물질도 열 증착법에 비해 상대적으로 쉽게 증발시킬 수 있는 특징을 갖고 있는 MEMS공정에 사용되는 전자선 고진공 증착 장치임. Au, Pt, Al, Ti, C등과 같은 물질을 Electron Beam을 이용하여 박막을 wafer상에 증착할 수 있는 장비임. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images/equip/photo/.thumb/IK6IdDGSSfNEwUzPVJ1H_w600.jpg |
| 장비위치주소 | KIST L6122호 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2002-08-040591 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-KIST_Fab-00021 |
| 첨부파일 |
| 과학기술표준분류 | |
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| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |