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장비
장비 및 시설 기본정보
유기습식세정기
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 세미텔 |
| 모델명 | KP-SM-OW-41129A01 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2005-03-11 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국광기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C502 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | control panel -조광형 선택(select)스위치 -resistivity monitor -touch screen bath -clean plate -goose neck : particle 및 residue를 제거 -폐액구 : 오염된 chemical을 회수하는 port -final bath : quick dumped rinse공정 -DIW gun2개 -N2 gun2roqlcl -ultra sonic bath : diw에 초음파(132khz) -hot plate -조절댐퍼 동작방식:매뉴얼 방식 도어방식: 레일로 인한 오픈 및 클로즈방식ㅇ웨이퍼 크기 : 2" 4" (사파이어 InP 기판) ㅇ사용 chemical : Acetone EKC830 IPA Methanol ㅇ장비본체 - SUS304 polishing - 프레임 : SUS 304 - 투명 QDR bath×2 -> SUS316L - 투명 Final rinse bath×2 ㅇDIW N2 gun - DIW gun : 2set with DI bypass - N2 gun : 2set - Exhaust manometer - Specific resistivity meter (18MΩ) ㅇ이중 드레인 구조 - 유기원액 폐액처리조 (20l bottle) - DI 폐수처리조 ㅇ자동소화기LD/LED/PD 및 C-MOS 등 반도체 전반적인 공정에 사용되는 장비로 유기물의 오염을 제거해주기 위해 유기 화학약품(아세톤 메탄올 에탄올)을 사용함. 이를 위해서는 유기화학약품의 전용장치에서 수행해야함 유기용액(acetone methanol ethanol)에 의한 wafer 세정용 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201101/.thumb/20110124115558_9049.jpg |
| 장비위치주소 | 광주 북구 월출동 971-35 한국광기술원 실험동 1층 메인클린룸 photo |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2010-12-126469 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0019891 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |