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장비 및 시설 기본정보
스핀 브러쉬 세정기
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 이피시스템 |
| 모델명 | CETUS-R |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2010-10-21 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 서울테크노파크 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C510 |
| 표준분류명 | 시험·검사장비 |
| 시설장비 설명 | 동작원리 : 반도체 공정에서 Wafer상에 생기는 이물질을 제거하기 위한 장비로 Via, Trench 형성 및 후속 공정에 필요한 Coating 및 Cleaning을 하나의 장비에서 구현할 수 있도록한 장비임. 분사 노즐에서 DI 또는 Chemical을 분사하며 브러쉬 및 선반이 회전을 하면서 작업이 진행되는 방식임. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images/equip/photo/.thumb/30yAw9On5IOsZMRnMXH1_w600.jpg |
| 장비위치주소 | 서울테크노파크 OPEN FAB104-2 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2011-01-137077 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-seoultp-00048 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |