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장비
장비 및 시설 기본정보
전자빔증착기
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 클라이오텍 |
| 모델명 | E-beam Evaporator |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2003-04-23 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 동의대학교 |
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| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | ■ 특징 Au Al Ti Pt 등 금속 전극 증착형성과 기존의 보유 장비와 연계하하여 반도체 소자 제조가 가능하며 ZrO2 SiO2 SI3N4등 유전체 박막 형성에 필수적 제조/공정 장비이다.■ 규격 - Chamber size : 500φ×600H Min. - 10KWatt E-Beam - 500Liter Turbo Pump ■ 성능 Process chamber Pumping unit E-Beam Source Substrate HolderVacuum gauge Monitor Control Box Frame 1. 전자빔 건 및 전원 2. Thermal Evaporation Electrodes & Power Supply 3. Substrate Heating & Rotation 4. Pumping and Vacuum Chamber System 5. Thickness and Vacuum Monitoring 6. System Frame & Control Rack■ 활용분야 Au Al Ti Pt 등 금속 전극 증착형성과 ZrO2 SiO2 SI3N4등 유전체 박막 형성 Mask Aligner system과 연계하여 반도체 소자 제조 급 금속 전극 증착형성과 유전체 박막형성에 필수적 제조/ 공정 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/itep200710/.thumb/1153933151_1.jpg |
| 장비위치주소 | 부산 부산진구 가야3동 동의대학교 산25 동의대학교 정보공학관 3층 310 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2007-10-000899 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0016081 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |