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습식공정장비

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보유기관명	LG디스플레이(주)
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C502
표준분류명
시설장비 설명	1. 특징 : 산/염기 화학물을 다룰 수 있는 습식 공정 bath2. 설명 본 Wet Station은 산/염기 및 DI Rinse 등의 습식 공정을 수행하기 위한 R&D용 Wet Bath로서 Sonication 및 Heating 이 가능한 Ultrasonic Bath Acid Bath Base Bath QDR로 구성되어 있음. Bath 내에서는 산/염기 화합물의 Wet Process가 가능하며 Display 제조 공정에 사용되는 Developer / Stripper / Etchant의 사용이 가능함. 3. 구성 - 제어판 - Ultrasonic / Heat Bath - Acid Bath - Base Bath - QDR4. 사용예 - Bath 내부에 산/염기 화학물로 wet process를 진행함 사용되는 chemical 예 : developer stripper etchant DI
장비이미지코드	http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201101/.thumb/20110125170902.jpg
장비위치주소	경기도 파주시 월롱면 덕은리 1007번지 LG디스플레이 R&D 센터
NFEC 등록번호	NFEC-2009-12-077533
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0017146
첨부파일