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장비
장비 및 시설 기본정보
전자 주사선 묘화 시스템 II
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Jeol |
| 모델명 | JBX-6000FS/E |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2006-04-11 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국나노기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C501 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 특징 파장이 매우 짧은 전자 빔을 이용하여 Resist에 나노 패턴 형성 구성및성능 * 가속 전압 : 25keV or 50keV * 최소 선폭 : 20nm 활용분야 나노 R&D Lithography 공정은 반도체 전체 공정의 30% 이상ㅇ르 차지하는 단위 공정으로 웨이퍼 위에 후속 에칭 공정의 마스크 역할을 하는 유기물의 특정 패턴 E-beam 을 이용하여 정확한 위치에 정확한 패턴을 전사하는 장비 1. ELPHY Quantum is the most universal and flexible lithography attachment for SEM/FIB available. 2. Based on the unsurpassed Raith Software User Interface your first attempts to produce small patterns will be very easy and straightforward. Ask for a software demo of any system and see the difference. 3. Raith is the only lithography attachment manufacturer who has the infrastructure to provide worldwide installation training and support. |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201109/.thumb/20110901113416.jpg |
| 장비위치주소 | 경기도 수원시 영통구 광교로 109 (이의동) 한국나노기술원 한국나노기술원 한국나노기술원 2층 팹동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2009-10-079030 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0017582 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |