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장비
장비 및 시설 기본정보
열처리 제조장치
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | SELTRON |
| 모델명 | SHF-150 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2003-07-28 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 경북대학교 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 특징 - 본 장치는 Heater 및 로내 구성푸을 횡형으로 배치하고 열처리를 행하는 장치 - 3 tube system 4~6" wafer - Process Wafer : 150mm(25매) - 반응가스 : O2 - 생성온도 : 1000 ~ 1150℃ - 최고가열온도 : 1200℃ - 상요온도 : 800 ~ 1150℃ - 균열장 : Max 300mm (1000℃기준 ±1.0℃) 구성 - 전기로 : 저항가열 Heater 150mm Wafer용 온도제어용 TC 3 set - 구동부 : Boat Loader - Gas : N+ Anneal (N2 10SLM / O2 5SLM) P+ Anneal (N2 10SLM / O2 5SLM) - controller : Main (Eurotherm 2704) MFC (Eurotherm 2216e)활용범위 건식 습식 Oxide 형성 annealing. |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201404/.thumb/20140404133959932.jpg |
| 장비위치주소 | 대구 북구 산격3동 경북대학교 1370 경북대학교 반도체연구동 지하1층 B105 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2007-10-011614 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0015677 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |