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초정밀 이온 연마기

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보유기관명	한국과학기술연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C208
표준분류명
시설장비 설명	고순도의 알곤 가스를 특수 이온 건에 흘리면서 고 전압을 순간적으로 가하면 발생하는 이온빔을 매개체로 여러가지 재료의 표면을 연마하면서 전자현미경의 관찰시 빔이 투과 할 수 있는 두께까지 정밀하게 가공해 나가는 원리- Ion Sourcr: Tow sets of Penning type guns - Dual Beam Modulation: 1.Reducing the temperature demage on the specimen 2.Reducing the contamination on the specimen - Low Energy Ion Miling: 0.1 keV ~ 6DkeV available- 재료의 미세구조를 관찰하는 투과전자현미경의 시편을 준비하기 위한 전처리 장치 중 가장 중ㅇ한 역할을 하는 가공기로 특히 세라믹 반도체 금속 및 복합 산화물 고분자 등의 재료를 위한 특수 정밀 가공 시스템
장비이미지코드	http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201308/.thumb/20130819191254494.jpg
장비위치주소	서울 성북구 월곡2동 과학기술연구원 39-1번지 한국과학기술연구원 연구동(L5) 1층 L5145A
NFEC 등록번호	NFEC-2009-10-072927
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0014027
첨부파일