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장비

KOH Etching Wet Station

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보유기관명	한국광기술원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드
표준분류명
시설장비 설명	Silicon based MEMS 구조 (V-groove Silicon optical bench)등 비등방적 식각ㅇ웨이퍼크기 : 2" 4" 6" ㅇ사용 chemical : KOH IPA ㅇ온도 조건 : 상온～120oC 균일도 ± 0.5oC ㅇ시스템구성 : Loader KOH+DI+IPA QDR Unloader ㅇKOH/IPA 수조 : Inner out SUS ㅇCassette 재질 : PVDF ㅇSUS 히터 : 6 kW & cooling water ㅇ온도 조절 : PID 조절 ㅇQDR 수조 : PVDF 재질 DIW shower Hot DI supply ㅇTransfer robot arm : direct chicking PTFE실리콘 wafer 비등방 식각용 식각을 위한 방법은 두가지가 있다. 하나는 건식각(plasma를 이용) 또하나는 습식(케미칼용액을 이용) 방식이다. 위 장비는 습식으로 높은 식각률을 얻을수 있다
장비이미지코드	http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201101/.thumb/20110125194543.jpg
장비위치주소	광주 북구 월출동 971-35 한국광기술원 실험동 1층 메인클린룸 wet
NFEC 등록번호	NFEC-2003-09-002502
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0013393
첨부파일